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更新日期：2024-03-23
簡(jiǎn)要描述：
日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70使用準(zhǔn)分子紫外光源的光學(xué)表面處理可以對(duì)薄膜材料等易受熱影響的物體進(jìn)行低溫表面處理，因?yàn)橛捎诠庠吹奶匦裕徽丈湮矬w的溫度不易升高。 此外，光化學(xué)反應(yīng)不太可能損壞工件。
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)品種類(lèi) | 臺(tái)式 |
|---|---|---|---|
| 數(shù)顯功能 | 有 | 溫控功能 | 有 |
| 產(chǎn)地 | 進(jìn)口 |
日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70
節(jié)省空間的臺(tái)式優(yōu)化
快速處理時(shí)間
僅AC100V電源
配備定時(shí)器設(shè)置處理時(shí)間
配備門(mén)聯(lián)鎖
配備臭氧處理裝置
無(wú)汞燈
內(nèi)置高度調(diào)節(jié)平臺(tái)
使用準(zhǔn)分子紫外光源的光學(xué)表面處理可以對(duì)薄膜材料等易受熱影響的物體進(jìn)行低溫表面處理，因?yàn)橛捎诠庠吹奶匦?，被照射物體的溫度不易升高。 此外，光化學(xué)反應(yīng)不太可能損壞工件。
潤(rùn)濕性、親水性、親和力改善
提高接合表面的附著力
表面改性
有機(jī)物分解、清洗
日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70
| 產(chǎn)品名稱(chēng) | 準(zhǔn)分子紫外光處理機(jī)臺(tái)式實(shí)驗(yàn)室規(guī)格 |
| 型號(hào) | E172-70 |
| 波長(zhǎng) | 172納米 |
| 光源 | 艾西米燈 Φ18 x 120 mm |
| 初始照度 | 20mW/cm2以上 |
| 連續(xù)照明操作 | 10分鐘內(nèi)（由于重量輕，風(fēng)冷設(shè)計(jì)?。?/span> |
| 外部尺寸 | 195（寬）× 380（深） x480（高）毫米※ |
| 效用 | 電源 AC100V 50/60Hz 2A |
| 定期更換零件 | 廢氣臭氧分解裝置建議1年或酌情更換 |
| 定期檢查 | 高壓電源、光源等 5年或視情況而定 |
